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| 稿件标题： | 磁控溅射快速沉积钽涂层的组织及性能 |
| 稿件作者： | 陈汉宾，陈大军，李忠盛，吴护林，丛大龙，李立，张隆平 |
| 栏目名称： | 化学工程与材料科学 |
| 关键词： | 磁控溅射；沉积速率；厚钽涂层；组织；应力 |
| 文章摘要： | 探索提高磁控溅射钽涂层沉积速率的方法，研究了沉积工艺如靶与基材相对关系、靶基间距、基体温度、沉积电流等参数对钽涂层的沉积速率、组织和性能的影响。结果表明靶基间距降低到20 mm，二者正对时沉积速率最高，达20 μm/h，能制备出20 μm厚钽涂层；基材温度为室温时，获得a相和β相组成的双相结构，提高基材温度到200 ℃时，可获得α相(脆性小)为主的单相组织；磁控溅射沉积的厚钽涂层内产生压应力，最大达621 MPa，厚钽涂层具有较高的显微硬度，为不锈钢基体的4倍。 |
| 引用本文格式： | 陈汉宾，陈大军，李忠盛，等.磁控溅射快速沉积钽涂层的组织及性能［J］.兵器装备工程学报，2018,39(11):156-160. CHEN Hanbin，CHEN Dajun, LI Zhongsheng, et al.Microstructure and Properties of Ta Coatings Rapidly Deposited by Magnetron Sputtering［J］.Journal of Ordnance Equipment Engineering,2018,39(11):156-160. |
| 刊期名称： | 2018年11期 |
| 出版时间： | 2018年11月 |
| 上线时间： | 2018年11月28日 |
| 浏览次数： | 2968 |
| 下载次数： | 795 |
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