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| 稿件标题： | 温度对中频磁控溅射沉积金属锆膜的影响 |
| 稿件作者： | 高毅，李兰，刘际伟，徐金江 |
| DOI： | 10.11809/bqzbgcxb2020.10.030 |
| 科学编辑： | 杨继森 博士（重庆理工大学教授） |
| 栏目名称： | 化学工程与材料科学 |
| 关键词： | 中频磁控溅射；锆膜；氮化锆 |
| 文章摘要： | 为了解决复杂环境下玻璃不耐腐蚀，致密性不理想的问题，以直流脉冲离子源辅助中频磁控溅射沉积在玻璃表面制备了纯锆镀层和氮化锆镀层，研究了沉积温度对其微观形貌、粗糙度、纳米压痕硬度的影响。结果表明：随沉积温度升高，锆膜/氮化锆膜中晶粒尺寸增大，膜层硬度下降；同时氮化锆晶粒间隙会随沉积温度升高而变小，膜层致密性随之提高。 |
| 引用本文格式： | 高毅,李兰,刘际伟,等.温度对中频磁控溅射沉积金属锆膜的影响［J］.兵器装备工程学报，2020,41(10):166-169. GAO Yi, LI Lan, LIU Jiwei, et al.Effect of Temperature on Metal Zirconium/Zirconium Nitride Film Deposited by Medium Frequency Magnetron Sputtering［J］.Journal of Ordnance Equipment Engineering,2020,41(10):166-169. |
| 刊期名称： | 2020年10期 |
| 出版时间： | 2020年10月 |
| 上线时间： | 2020年10月28日 |
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